公司成立于 1967 年，為全球領先的半導體專用設備制造商，總部位于美國。公司向半導體、顯示器及相關行業提供制造設備、服務和軟件，在半導體領域的主要產品為芯片制造領域的各種制造設備，包括外延、離子注入、氧化和氮化、快速熱處理、物理氣相沉積、化學氣相沉積、化學機械平坦化、電化學沉積、原子層沉積、刻蝕以及計量和檢驗工具。

公司成立于 1984 年，總部位于荷蘭，為半導體行業光刻設備制造業的全球領先者之一，其紫外光刻設備（EUV）光刻機在全球范圍內處于壟斷地位。

公司成立于 1976 年，總部位于美國，為全球領先的設備供應商，為半導體、數據存儲、LED 及其他相關納米電子產業提供工藝控制與良率管理的解決方案，主要產品為用于晶圓制造、封裝測試領域的檢測、測試和數據分析等設備。

公司成立于 1943 年，是日本半導體專用設備和 LCD 生產設備公司，客戶遍及日本、韓國和中國臺灣地區。DNS 主要產品為清洗設備、刻蝕設備、涂膠/顯影設備等，其中清洗設備在半導體業界具有極高的市占率，在全球半導體清洗設備市場的占有率在 40%以上。

公司成立于 1963 年，是全球領先的半導體制造設備、液晶顯示器制造設備制造商之一。該公司的主要產品主要包括氣相沉積設備、涂膠/顯影設備、熱處理成膜設備、干法刻蝕設備、化學氣相沉積、濕法清洗設備、測試設備及平板液晶顯示設備等。

公司成立于 1980 年，總部位于美國加州弗里蒙特，是向全球半導體產業提供晶圓制造設備和服務的主要供應商之一。公司的主要產品包括用于制造集

成電路的刻蝕設備、氣相沉積設備、電鍍設備、清洗設備等半導體加工設備。

公司成立于 2004 年，是一家以中國為基地、面向全球的高端半導體微觀加工設備公司，是中國集成電路設備行業的領先企業。中微公司聚焦用于集成電路、LED 芯片等微觀器件領域的等離子體刻蝕設備、深硅刻蝕設備和 MOCVD設備等關鍵設備的研發、生產和銷售。

公司成立于 2001 年，是由北京七星華創電子股份有限公司和北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司于 2016 年戰略重組而成，總部位于北京市，從事基礎電子產品的研發、生產、銷售及技術服務業務，主要產品為刻蝕設備、PVD 設備、立式回火爐設備和清洗設備等半導體專用裝備、真空裝備、新能源鋰電裝備及精密元器件，并為半導體、新能源、新材料等領域提供解決方案。

公司成立于 2002 年，主要從事半導體專用設備的研發、生產和銷售，產品包括光刻工序涂膠顯影設備（涂膠/顯影設備、噴膠設備）和單片式濕法設備（清洗設備、去膠設備、濕法刻蝕設備），可用于 6 英寸及以下單片處理（如 LED晶圓制造環節）及 8/12 英寸單片處理（如晶圓制造及先進封裝環節）。

公司成立于 2008 年，是一家致力于提升中國集成電路專用裝備技術水平、積極推動集成電路裝備業升級的高新技術企業。長川科技自成立以來一直專注于集成電路測試設備的自主研發和創新，主營產品包括測試設備和分選設備。